Плівковий фоторезист DuPont Riston MM540

Riston® MultiMaster ММ540 характеризується дуже хорошим зчепленням з усіма поверхнями. Розробка формули резисту була націлена на забезпечення його сумісності з міддю фольгованих діелектриків, скруббірованной і нескрубірованной хімічної міддю, з поверхнями, підготовленими для прямої металізації і з гальванічно обложеної міддю.
Резист призначений для застосування в кислому і лужному травленні, у процесах тентування і травлення, гальванічного осадження міді, олова, припою, нікелю і золота.
ММ540 можна експонувати на будь-якому стандартному обладнанні, що застосовується в промисловості з виробництва друкованих плат. При цьому підберіть лампи, які відповідали б спектральної чутливості фоторезиста (350 -380 нм).
У порівнянні з іншими фоторезистом відрізняється більш високою роздільною здатністю і більшою широтою експозиції. На ньому менше позначається порушення контакту шаблону зі склом, що зазвичай відбувається в експозиційних рамах конструкції "скло-скло".
При оптимізованих умовах виробництва має дозвіл 50 мкм по лініях і проміжків між ними.
Обробляється водними розчинами (Кальцинована сода).

Товщина: 38 мкм.
Розмір: ширина 300 мм. - довжина однієї одиниці 200 мм.
При замовленні більше 2-х одиниць поставляється рулоном.
Відправка по 100% передоплаті.

Написати відгук